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J-GLOBAL ID:200903086332336727
超臨界水下で連続的に蛍光体を合成する方法およびこれに用いられる蛍光体合成反応装置
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005327329
Publication number (International publication number):2006137953
Application date: Nov. 11, 2005
Publication date: Jun. 01, 2006
Summary:
【課題】本発明は、超臨界水下で蛍光体を連続的に合成する方法およびこれに用いられる蛍光体合成反応装置に関する。【解決手段】超臨界水の条件下で蛍光体(phosphor)を合成する方法において、(1)製造しようとする蛍光体の量論比に適合する母体(host)および母体にドーピングする活性剤(activator)を含む水溶性金属塩溶液とアルカリ溶液を混合反応させ、水溶性金属塩溶液を水酸化物塩溶液に転換させる工程と、(2)前記水酸化物塩溶液と予熱水を混合反応させ、反応混合液の温度を150〜200°Cで維持させる工程と、(3)前記反応混合液を超臨界水状態を維持している主反応器内に投入して製造しようとする蛍光体粒子を合成する工程と、(4)合成された蛍光体粒子を凝縮、ろ過、乾燥して回収する工程とを含むことを特徴とする超臨界水の条件下で蛍光体(phosphor)蛍光体の合成方法。【選択図】図1
Claim (excerpt):
超臨界水の条件下で蛍光体(phosphor)を合成する方法において、
(1)製造しようとする蛍光体の量論比に適合する母体(host)および母体にドーピングする活性剤(activator)を含む水溶性金属塩溶液とアルカリ溶液を混合反応させ、水溶性金属塩溶液を水酸化物塩溶液に転換させる工程と、
(2)前記水酸化物塩溶液と予熱水を混合反応させ、反応混合液の温度を150〜200°Cで維持させる工程と、
(3)前記反応混合液を超臨界水状態を維持している主反応器内に投入して製造しようとする蛍光体粒子を合成する工程と、
(4)合成された蛍光体粒子を凝縮、ろ過、乾燥して回収する工程とを含むことを特徴とする蛍光体の合成方法。
IPC (3):
C09K 11/08
, C09K 11/80
, B01J 3/00
FI (3):
C09K11/08 A
, C09K11/80
, B01J3/00 A
F-Term (30):
4G076AA18
, 4G076AB07
, 4G076BA13
, 4G076BA50
, 4G076BD01
, 4G076BD02
, 4G076BD04
, 4G076BH01
, 4G076DA02
, 4G076DA09
, 4H001CF01
, 4H001XA08
, 4H001XA13
, 4H001XA39
, 4H001YA21
, 4H001YA39
, 4H001YA57
, 4H001YA58
, 4H001YA59
, 4H001YA60
, 4H001YA62
, 4H001YA63
, 4H001YA64
, 4H001YA65
, 4H001YA66
, 4H001YA67
, 4H001YA68
, 4H001YA69
, 4H001YA70
, 4H001YA71
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
無機蛍光体の製造方法及び無機蛍光体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-200706
Applicant:コニカ株式会社
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蛍光体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-266903
Applicant:シャープ株式会社, 原田雅史, 田部勢津久
-
蛍光体及び蛍光体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-209821
Applicant:学校法人慶應義塾
-
蛍光体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-316988
Applicant:三菱化学株式会社, 新井邦夫, 阿尻雅文
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Article cited by the Patent:
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