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J-GLOBAL ID：200903086528947767

多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法

Inventor：
岡崎 俊二

About 岡崎 俊二

, 
諏訪部 博久

About 諏訪部 博久


Applicant, Patent owner：
日立金属株式会社

About 日立金属株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001025974
Publication number (International publication number)：2002234780
Application date： Feb. 01, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 気孔率を大きくするために、造孔剤を多量に添加しても、成形体の乾燥又は焼成後に、変形や割れの発生の少ないハニカム構造体の製造方法を得る。【解決手段】 コーディエライト組成となる原料と、成形助剤、造孔剤、水を混合、混練し、押出成形法により成形体を作成後、該成形体を乾燥、焼成する多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法であって、(a)マイクロ波又は誘電乾燥により成形体の含有水分の60〜90質量%を蒸発させる第1の乾燥工程、(b)熱風乾燥により成形体の含有水分の残部を蒸発させる第2の乾燥工程、又は更に、(c)熱風循環炉により造孔剤を50〜70質量%焼失させる第1の焼成工程、(d)単独炉又はトンネル炉等により造孔剤の残部を焼失させる第2の焼成工程、を有する。
Claim (excerpt)：
コーディエライト組成となる原料と、成形助剤、造孔剤、水を混合、混練し、押出成形法により成形体を作成後、該成形体を乾燥、焼成する多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法であって、乾燥工程において、(a)前記成形体の含有水分の60〜90質量%をマイクロ波乾燥炉又は誘電乾燥炉にて蒸発させる第1の乾燥工程、(b)前記成形体の含有水分の残部を熱風乾燥炉にて蒸発させる第2の乾燥工程、を有することを特徴とする多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法。
IPC (6)：
C04B 38/06 ,  B01D 39/20 ,  B01D 53/86 ,  B01J 32/00 ZAB ,  B01J 35/04 301 ,  B28B 3/20
FI (8)：
C04B 38/06 D ,  C04B 38/06 G ,  C04B 38/06 H ,  B01D 39/20 D ,  B01J 32/00 ZAB ,  B01J 35/04 301 N ,  B28B 3/20 K ,  B01D 53/36 C
F-Term (25)：
4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019CB06 ,  4D048AA14 ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4D048CC41 ,  4G054AA06 ,  4G054AB09 ,  4G054BD01 ,  4G054BD19 ,  4G054DA03 ,  4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069BA13A ,  4G069BA13B ,  4G069BA29C ,  4G069DA05 ,  4G069EA19 ,  4G069FB30 ,  4G069FB57 ,  4G069FB58 ,  4G069FB67 ,  4G069FC03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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