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J-GLOBAL ID：200903086749798618

ホローカソードおよびこのホローカソードを具備するイオンプレーティング装置

Inventor： 箱守 宗人 ,  日比野 幸信 ,  松崎 封徳 ,  倉内 利春 ,  松浦 正道
Applicant, Patent owner： 日本真空技術株式会社
Agent (1)： 飯阪 泰雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996352672
Publication number (International publication number)：1998168562
Application date： Dec. 12, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 使用されている高融点金属が反応ガスとしてのO2 ガスによって酸化、消耗されない耐酸化性ホローカソードが組み込まれたイオンプレーティング装置を提供すること。【解決手段】 耐酸化性ホローカソード57は、内層としてのLaB6 円筒41を一体的に保持する外層としてのTaチューブ45の上端部をTaパイプ44の先端部に固定し、そのTaチューブ45の外周側を覆うようにTaからなるシールド・チューブ51がAl2 O3 からなるスペーサ59を介して取り付けられている。そして、成膜時にはTaパイプ44から送り込まれるホローカソード放電用Arガスとは別に、保護用Arガスが導入ノズル52からシールド・チューブ51内へ送り込まれてTaチューブ45の外周面を保護し開口56から排出される。従って、雰囲気中にO2 ガスが存在する場合にもTaチューブ45が酸化されることはない。

Claim (excerpt)：

ホローカソード放電によるイオンプレーティングに使用するための、高融点金属からなる外層と、LaB6 (硼化ランタン)からなる内層とによって円筒状に形成されたホローカソードであって該ホローカソードの外周面との間に保護用不活性ガスの通路となる空間をあけて前記ホローカソードを覆う筒状のシールド材がスペーサを介して前記ホローカソードの外周面に取り付けられており、かつ前記シールド材には前記空間内へ前記保護用不活性ガスを供給する導入口と、少なくとも前記ホローカソードの先端の中央部に対応する箇所において前記保護用不活性ガスの開口とが形成されており、酸化性反応ガスの存在下に行われるイオンプレーティング時には、前記ホローカソード内へ供給されるホローカソード放電用不活性ガスとは独立して、前記シールド材の前記導入口から前記保護用不活性ガスが供給され、前記空間内を経由して前記開口から排出されることにより、前記ホローカソードが酸化性の雰囲気から保護されることを特徴とするホローカソード。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平1-263264
  
• イオンビーム中性化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-206047   Applicant：日新電機株式会社

Cited by examiner (2)

• 特開平1-263264
  
• イオンビーム中性化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-206047   Applicant：日新電機株式会社