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J-GLOBAL ID：200903086876679350

三弗化窒素ガスの除害方法

Inventor： 原田 功 ,  在塚 眞 ,  菰原 定一 ,  橋本 隆
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993310756
Publication number (International publication number)：1995155541
Application date： Dec. 10, 1993
Publication date： Jun. 20, 1995
Summary：

【要約】【構成】 一種以上の金属酸化物及び/または金属水酸化物を、還元性ガスを用いて還元処理し、得られた還元粉の還元率が20重量%以上で、かつ比表面積が1m2/g以上である該還元粉をカラムに充填し、室温〜400°Cで三弗化窒素ガスの有するガスを通気する三弗化窒素ガスの除害方法。【効果】 従来法に比べ低い温度でNF3の除害を効率よく行い、CF4、窒素酸化物の発生がないので、これを除去する必要もない。したがって、エネルギーコスト面で効果がある。

Claim (excerpt)：

一種以上の金属酸化物及び/または金属水酸化物を、還元性ガスを用いて還元処理し、得られた還元粉の還元率が20重量%以上で、かつ比表面積が1m2/g以上である該還元粉をカラムに充填し、室温〜400°Cで三弗化窒素ガスの有するガスを通気することを特徴とする三弗化窒素ガスの除害方法。

IPC (3)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/54

FI (3)：

B01D 53/34 134 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 128

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 三フッ化窒素の除害方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-094725   Applicant：岩谷産業株式会社