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J-GLOBAL ID：200903086933741394

分光分析装置

Inventor：
植村 健

About 植村 健


Applicant, Patent owner：
株式会社堀場製作所

About 株式会社堀場製作所


Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000189862
Publication number (International publication number)：2002005837
Application date： Jun. 23, 2000
Publication date： Jan. 09, 2002
Summary：
【要約】【課題】 例えばICP発光の光源など、各測定成分によって異なる波長で位置的に異なる強度分布を有する光を最適に分光分析することにより、SN比を向上させることができる分光分析装置を提供する。【解決手段】 測定対象試料の各測定成分によって異なる波長の光を位置的に異なる強度分布を有して発生するプラズマ炎2aと、このプラズマ炎2aからの光を波長分光する回折格子6と、この回折格子6によって分光された各波長の光を検出するCCD光検出器8a〜8cと、このCCD光検出器8a〜8cにプラズマ炎2aからの光を結像する光学系Lとを有する。
Claim (excerpt)：
測定対象試料の各測定成分によって異なる波長の光を位置的に異なる強度分布を有して発生する光源と、この光源からの光を波長分光する分光器と、この分光器によって分光された各波長の光を検出するCTD光検出器と、このCTD光検出器に光源からの光を結像する光学系とを有することを特徴とする分光分析装置。
IPC (2)：
G01N 21/73 ,  G01J 3/20
FI (2)：
G01N 21/73 ,  G01J 3/20
F-Term (20)：
2G020BA02 ,  2G020CA01 ,  2G020CB04 ,  2G020CC05 ,  2G020CC42 ,  2G020CD06 ,  2G020CD23 ,  2G020CD24 ,  2G020CD32 ,  2G020CD33 ,  2G020CD37 ,  2G043AA01 ,  2G043CA01 ,  2G043EA08 ,  2G043JA04 ,  2G043LA02 ,  2G043LA03 ,  2G043MA04 ,  2G043NA01 ,  2G043NA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特開平4-104243
  • 潤滑油の硫酸灰分の推算方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-271986   Applicant：株式会社コスモ総合研究所, コスモ石油株式会社
  • ICP発光分光分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-104550   Applicant：日本ジャーレル・アッシュ株式会社
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