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J-GLOBAL ID:200903086989886875
極めて低い残留モノマー含量を有する合成ポリマーの製造法、それにより得られた生成物および該生成物の使用
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
矢野 敏雄 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000522142
Publication number (International publication number):2001524556
Application date: Nov. 13, 1998
Publication date: Dec. 04, 2001
Summary:
【要約】本発明は、残留モノマーの低い含量を有するアクリル酸および/またはアクリル酸誘導体から水溶性もしくは水膨潤性のポリマーを製造する方法に関し、この方法は、重合すべきモノマー溶液に窒素化合物を添加し、その後にポリマーを120〜240°Cの温度で加熱することによって特徴付けられている。その後に、得られたポリマーは、なかんずく凝集剤、分散剤および吸着剤としての使用に適している。
Claim (excerpt):
アクリル酸および/またはアクリル酸誘導体を水溶液中でラジカル重合させることによって水溶性もしくは水膨潤性の合成ポリマーを製造する方法において、ポリマーをモノマー溶液から生成し、この溶液に少なくとも1つの窒素化合物を重合前または重合中にその塩の形で添加し、重合後に生成されたポリマーを120〜240°Cの温度で加熱し、それによって極めて低い残留モノマー含量を有するポリマーを得ることを特徴とする、水溶性もしくは水膨潤性の合成ポリマーを製造する方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (41):
4J100AE13Q
, 4J100AG04P
, 4J100AG04Q
, 4J100AH31Q
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ08P
, 4J100AJ09P
, 4J100AL08P
, 4J100AL09P
, 4J100AL62Q
, 4J100AL63Q
, 4J100AL66Q
, 4J100AL67Q
, 4J100AL75Q
, 4J100AL92Q
, 4J100AM02P
, 4J100AM15P
, 4J100AM19P
, 4J100AM21P
, 4J100AM24Q
, 4J100AN13Q
, 4J100AP01P
, 4J100AQ08P
, 4J100AQ20Q
, 4J100BA07P
, 4J100BA31P
, 4J100BA33P
, 4J100BA56P
, 4J100BA65Q
, 4J100BC75Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA37
, 4J100DA38
, 4J100FA02
, 4J100HB43
, 4J100HC43
, 4J100HC47
, 4J100JA18
, 4J100JA50
, 4J100JA59
Patent cited by the Patent: