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J-GLOBAL ID：200903087017429756

導電性基板およびその製造方法

Inventor： 田中 正太郎 ,  大橋 純平 ,  高田 育
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007013502
Publication number (International publication number)：2007227906
Application date： Jan. 24, 2007
Publication date： Sep. 06, 2007
Summary：

【課題】 この発明は、透明で、モアレ現象が発生せず、特にプラズマディスプレイパネルで特徴的に求められる低周波領域での磁界シールド性にも優れる導電性基板を提供する。【解決手段】 基板の少なくとも片面に、金属微粒子層がランダムな網目状に積層され、該金属微粒子層上にめっき金属層が積層されたランダム網目層を有する導電性基板であって、該導電性基板の少なくとも片面の該めっき金属層の厚みが1.5μm以上であり、該導電性基板の全光線透過率が65%よりも大きく、かつ該導電性基板の少なくとも片面の表面比抵抗が0.5Ω/□よりも小さい、導電性基板。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板の少なくとも片面に、金属微粒子層がランダムな網目状に積層され、該金属微粒子層上にめっき金属層が積層されたランダム網目層を有する導電性基板であって、 該導電性基板の少なくとも片面の該めっき金属層の厚みが1.5μm以上であり、 該導電性基板の全光線透過率が65%よりも大きく、かつ該導電性基板の少なくとも片面の表面比抵抗が0.5Ω/□よりも小さい、 導電性基板。

IPC (5)：

H05K 9/00 ,  G09F 9/00 ,  B32B 15/02 ,  B32B 15/04 ,  B32B 7/02

FI (6)：

H05K9/00 V ,  G09F9/00 309A ,  G09F9/00 313 ,  B32B15/02 ,  B32B15/04 ,  B32B7/02 104

F-Term (70)：

4F100AB01B ,  4F100AB01C ,  4F100AB01D ,  4F100AB01E ,  4F100AB17 ,  4F100AB24 ,  4F100AG00 ,  4F100AK41 ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10E ,  4F100BA25 ,  4F100DC16B ,  4F100DC16D ,  4F100DE01B ,  4F100DE01D ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EH71 ,  4F100EH712 ,  4F100EJ82 ,  4F100EJ822 ,  4F100EJ85 ,  4F100EJ852 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JD06A ,  4F100JD06B ,  4F100JD06C ,  4F100JD06D ,  4F100JD06E ,  4F100JG04B ,  4F100JG04C ,  4F100JG04D ,  4F100JG04E ,  4F100JG06 ,  4F100JM01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100JN01C ,  4F100JN01D ,  4F100JN01E ,  4F100JN06B ,  4F100JN06D ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4F100YY00E ,  5E321AA04 ,  5E321AA23 ,  5E321BB23 ,  5E321BB41 ,  5E321BB44 ,  5E321CC16 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01 ,  5G435AA01 ,  5G435AA16 ,  5G435BB06 ,  5G435GG33 ,  5G435HH12 ,  5G435KK07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 透明導電膜付き基板およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-163526   Applicant：住友大阪セメント株式会社
• 透明導電膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-348161   Applicant：住友大阪セメント株式会社
• 透光性電磁波シ-ルド部材およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-370866   Applicant：住友ゴム工業株式会社
• 透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-430085   Applicant：富士写真フイルム株式会社

Cited by examiner (3)

• 透明導電膜付き基板およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-163526   Applicant：住友大阪セメント株式会社
• ポリイミド多孔質膜複合材料および電磁波吸収体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-052068   Applicant：宇部興産株式会社
• マグネシウム合金部材のめっき方法およびマグネシウム合金めっき部材ならびに該部材のめっき剥離方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-004538   Applicant：株式会社日本製鋼所, 中国電化工業株式会社