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J-GLOBAL ID：200903087043442990

露光装置及びデバイス製造方法

Inventor： 是永 伸茂 ,  西邑 直亮
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005019834
Publication number (International publication number)：2005317916
Application date： Jan. 27, 2005
Publication date： Nov. 10, 2005
Summary：

【課題】基板ステージが基板処理系下方と露光用光学系下方との間で移動したときに、露光または処理を開始するまでの時間を短縮する。【解決手段】 露光装置は、基板にパターンを露光する露光用光学系と、前記露光用光学系と離れた位置で、前記基板に対して所定の処理を行う基板処理系と、前記露光用光学系の光軸と垂直な平面に沿って移動する基板ステージA,Bと、前記基板ステージが前記基板処理系下方から前記露光用光学系下方へ移動している間に前記基板ステージの前記光軸方向における位置を前記基板ステージの移動範囲にわたって連続的に計測する計測手段DZ1〜3,UZ1〜3とを有する。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

基板にパターンを露光する露光用光学系と、 前記露光用光学系と離れた位置で、前記基板に対して所定の処理を行う基板処理系と、 前記露光用光学系の光軸と垂直な平面に沿って移動する基板ステージと、 前記基板ステージが前記基板処理系下方から前記露光用光学系下方へ移動している間に前記基板ステージの前記光軸方向における位置を前記基板ステージの移動範囲にわたって連続的に計測する計測手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

FI (4)：

H01L21/30 516B ,  G03F9/00 H ,  H01L21/68 K ,  H01L21/30 515G

F-Term (20)：

5F031CA02 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA17 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA38 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031LA08 ,  5F031MA27 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16 ,  5F046CD01 ,  5F046DA07 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-075652   Applicant：キヤノン株式会社