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J-GLOBAL ID：200903098736542833

基板処理装置

Inventor：
堆 浩太郎

About 堆 浩太郎

, 
江本 圭司

About 江本 圭司


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 伊東 哲也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001075652
Publication number (International publication number)：2002280283
Application date： Mar. 16, 2001
Publication date： Sep. 27, 2002
Summary：
【要約】【課題】 パターン配置を測定する処理と加工処理を並列処理し、2個の基板ステージ位置の精確な把握を維持可能とし、配管配線のからまるのを防止する。【解決手段】 基板2a,2bにおけるパターン配置を測定するアライメント系1と、アライメント系1とは別に設けられ、基板2a,2bに加工処理する処理系5と、基板を保持し、xy平面上を動くことのできる第1の基板ステージ4a及び第2の基板ステージ4bと、両基板ステージ4a,4bの位置を計測する位置計測手段40xa〜40xd,40ya〜40yc,42ya〜42ycとを備え、該位置計測手段はx軸方向の位置を計測するための4箇所、及びy軸方向の位置を計測するための3箇所にあって、y軸方向の位置を計測するための1箇所は両基板ステージ4a,4bに関して逆側に配置されている。
Claim (excerpt)：
基板におけるパターン配置を測定するアライメント系と、前記アライメント系とは別に設けられ、基板の加工処理をする処理系と、前記アライメント系と前記処理系を結ぶ軸をy軸、アライメント系の光軸をz軸、これらの両軸と直交する方向をx軸としたときに、前記基板を保持し、xy平面上を動くことのできる第1の基板ステージと、基板を保持し、前記xy平面上を動くことのできる第2の基板ステージと、前記第1および第2の両基板ステージの位置を計測する位置計測システムとを備えており、前記位置計測システムはx軸方向の位置を計測するための少なくとも3箇所、およびy軸方向の位置を計測するための少なくとも3箇所にあって、y軸方向の位置を計測するための少なくとも1箇所は前記両基板ステージに関して逆側に配置されることを特徴とする基板処理装置。
IPC (5)：
H01L 21/027 ,  G01B 21/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68 ,  G01B 11/00
FI (6)：
G01B 21/00 D ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 K ,  G01B 11/00 G ,  H01L 21/30 503 A
F-Term (43)：
2F065AA03 ,  2F065BB02 ,  2F065CC00 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ05 ,  2F065PP12 ,  2F069AA03 ,  2F069BB40 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069HH09 ,  2F069MM03 ,  2F069MM24 ,  2F069MM34 ,  5F031CA02 ,  5F031GA24 ,  5F031GA30 ,  5F031GA43 ,  5F031HA01 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031JA02 ,  5F031JA06 ,  5F031JA14 ,  5F031JA17 ,  5F031JA19 ,  5F031JA32 ,  5F031MA27 ,  5F031PA06 ,  5F046AA17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC13 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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