Pat
J-GLOBAL ID:200903087069269960

光学装置の特性を決定する方法及び検査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 加藤 公久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001349780
Publication number (International publication number):2002243585
Application date: Nov. 15, 2001
Publication date: Aug. 28, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】干渉計を必要としない、光学装置のジョーンズマトリクスの要素等を決定する方法及び装置を提供する。【解決手段】その方法は、入射光束を生成する工程と、入射光束を第1の光束と第2の光束に分割する工程と、互いに遅延した2つの部分を有する第1の光束を、所定の初期偏光にしてテストを受ける光学装置に接続する工程と、第2の光束を第1の光束とは異なる路に進行させる工程と、第1の光束と第2の光束を重ね合わせ、重ね合わせられた光束における第1の光束と第2の光束との間に干渉を行わせる工程と、重ね合わせられた光束を依存する第3の光束と第4の光束とに分離する工程と、所定の周波数範囲で入射光束の周波数を所定の周波数範囲にわたって同調させるとき、周波数の関数として第3の光束及び第4の光束のパワーを検出する工程と、検出されたパワーの周波数依存性からテストを受ける光学装置の特性を導き出す工程とを有する。
Claim (excerpt):
テストを受ける光学装置の特性を決定する方法において、入射光束を第1の光束と第2の光束に分割する工程と、所定の偏光を備えた前記第1の光束を前記テストを受ける光学装置に接続する工程と、前記第2の光束を前記第1の光束とは異なる路に進行させる工程と、前記第1の光束と前記第2の光束を重ね合わせ、生じた重ね合わせられた光束における前記第1の光束と前記第2の光束間に干渉を行わせる工程と、前記入射光束の周波数を所定の周波数範囲にわたって同調させるとき、周波数と偏光の関数として前記重ね合わせられた光束のパワーを検出する工程と、検出されたパワーの周波数依存性から前記テストを受ける光学装置の特性を取り出す工程とを有する方法。
IPC (2):
G01M 11/00 ,  G01M 11/02
FI (3):
G01M 11/00 T ,  G01M 11/02 J ,  G01M 11/02 K
F-Term (4):
2G086EE06 ,  2G086EE12 ,  2G086KK01 ,  2G086KK07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

Return to Previous Page