Pat
J-GLOBAL ID:200903087182968068

回転対陰極X線発生装置、X線発生方法、及びX線発生用回転対陰極

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 須山 佐一 ,  阿相 順一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007295503
Publication number (International publication number):2009123486
Application date: Nov. 14, 2007
Publication date: Jun. 04, 2009
Summary:
【課題】回転対陰極に対して高輝度の電子線が照射された場合においても、前記回転対陰極の冷却水の局部的な沸騰を抑えることにより冷却能を保持し、高輝度のX線を安定して発生させる。【解決手段】所定の電子線を発生させるための電子線源と、前記電子線の照射を受けて電子線照射部を形成し、この電子線照射部から所定のX線を生成する回転対陰極とを具え、前記電子線照射部は、前記回転対陰極の、回転に伴う遠心力が作用する方向において形成され、前記回転対陰極は、前記電子線照射部を中心として、前記電子線照射部から外方に向けて一定の半径rの曲率を有する半円柱状の凸部を含むように形成して、回転対陰極X線発生装置を構成する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
所定の電子線を発生させるための電子線源と、 前記電子線の照射を受けて電子線照射部を形成し、この電子線照射部から所定のX線を生成する回転対陰極とを具え、 前記電子線照射部は、前記回転対陰極の、回転に伴う遠心力が作用する方向において形成され、 前記回転対陰極は、前記電子線照射部を中心として、前記電子線照射部から外方に向けて一定の半径rの曲率を有する半円柱状の凸部を含むように形成したことを特徴とする、回転対陰極X線発生装置。
IPC (1):
H01J 35/10
FI (2):
H01J35/10 H ,  H01J35/10 C
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

Return to Previous Page