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J-GLOBAL ID：200903087261780678

光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法

Inventor：
永山 勝也

About 永山 勝也

, 
松井 雅彦

About 松井 雅彦


Applicant, Patent owner：
住友電気工業株式会社

About 住友電気工業株式会社


Agent (4)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  柴田 昌聰 ,  石田 悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006294836
Publication number (International publication number)：2007052458
Application date： Oct. 30, 2006
Publication date： Mar. 01, 2007
Summary：
【課題】 線引時の張力制御が容易化されて伝送損失を低減することが可能な光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】 コア領域100と、コア領域100よりも屈折率が低くなるようにFが添加されたクラッド領域200のクラッド層201とを備える光ファイバを形成する。そして、最外クラッド層となるクラッド層201の外周を含む外縁部205内において、内側から外側に向かって、Fの添加量が順次減少していくように構成する。このとき、外縁部205の粘性が大きくなるので、光ファイバ内に加わる応力が好適に分散される。これにより、コアへの応力集中が抑制されて線引時の張力制御が容易化され、伝送損失が低減される。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
屈折率が純SiO2の屈折率以下のコア領域と、前記コア領域の外周に設けられ、前記コア領域よりも屈折率が低くなるようにフッ素が添加された1層または複数層のクラッド層を有するクラッド領域とを備え、 前記1層または複数層のクラッド層のうちで最も外側に位置する最外クラッド層は、その外周を含み前記外周から7.5μmの厚さを有する外縁部内において、内側から外側にかけて屈折率が順次増加するようにフッ素の添加量が順次減少していくように構成されており、各部における比屈折率差を純SiO2での屈折率を基準として%で表して定義したときに、前記外縁部での比屈折率差の最大値と最小値との差が0.15%以上であり、かつ、前記外周での比屈折率差Δnaが条件 Δna≧-0.35% を満たすことを特徴とする光ファイバ。
IPC (1)：
G02B 6/036
FI (1)：
G02B6/22
F-Term (10)：
2H150AB10 ,  2H150AD02 ,  2H150AD03 ,  2H150AD14 ,  2H150AD17 ,  2H150AD20 ,  2H150AD22 ,  2H150AD32 ,  2H150AH27 ,  2H150AH50
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特開昭60-255646号公報
Cited by examiner (7)
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