遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998136918
Publication number (International publication number)：1999327147
Application date： May. 19, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】優れたドライエッチング耐性、感度等を有すると同時に、パターンのクラッキング発生が十分に抑制され、十分に優れた基板密着性を有し、パターンプロファイルが優れていて、ArFエキシマレーザー光源用として好適に用いることができるフォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の構造の繰り返し単位及び特定の脂環式構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、前記酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が、下記一般式(I)及び一般式(II)で表される繰り返し単位と、酸の作用により分解する基とを含有する重合体を含むことを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1 、R2 は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5 、-CO-NH-R6 、-CO-NH-SO2 -R6 、置換されていてもよい、アルキル基、アルコキシ基あるいは環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。R5 は、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。-Y基:【化2】R6 は、置換基を有していてもよい、アルキル基又は環状炭化水素基を表す。R21〜R28は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。a、bは1又は2を表す。R11、R12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2 -又は-NHSO2 NH-を表す。Aは単結合又は2価の連結基を表す。Zは、2つの炭素原子(C-C)とともに、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027 , C08F222/10 , C08F232/00

FI (4)：

G03F 7/039 601 , C08F222/10 , C08F232/00 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-352621 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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