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J-GLOBAL ID：200903087378629946

パターン検査方法及びパターン検査装置

Inventor： 井田 徹 ,  竹井 俊哉
Applicant, Patent owner： 日本アビオニクス株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997124044
Publication number (International publication number)：1998312461
Application date： May. 14, 1997
Publication date： Nov. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 大容量のメモリを用いることなく被測定パターンを検査する。【解決手段】 被測定パターンの設計時のCADデータあるいは被測定パターンの良品の画像データからマスタパターンの輪郭を示す直線を抽出する。この直線の始点座標、終点座標をマスタパターン情報として登録する(ステップ101、102)。被測定パターンをカメラで撮像して2値化する(ステップ103、104)。所定の大きさの分割領域ごとに、マスタパターン情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上に展開する(ステップ105)。このマスタパターンと被測定パターンを比較する(ステップ108、109)。

Claim (excerpt)：

基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、被測定パターンの設計時のCADデータあるいは被測定パターンの良品の画像データからマスタパターンの輪郭を示す直線を抽出して、抽出した直線の始点座標、終点座標をマスタパターン情報として登録し、所定の大きさの分割領域ごとに、前記マスタパターン情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上に展開し、このマスタパターンと被測定パターンを比較することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (2)：

G06T 7/00 ,  G01N 21/88

FI (2)：

G06F 15/62 405 A ,  G01N 21/88 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 画像データ比較装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-049264   Applicant：富士通株式会社