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J-GLOBAL ID：200903087711008121

ガラス導波路の製造法

Inventor： 徳永 利秀 ,  岡野 広明 ,  鴨志田 敏和 ,  上塚 尚登
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 松本 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992033308
Publication number (International publication number)：1993232335
Application date： Feb. 20, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】ガラス導波路のクラッド層の屈折率を均一化することを目的とする。【構成】シリカガラス基板またはシリカ系ガラスが形成されたシリコン基板上にコアを形成し、コアを覆うように多孔質クラッド層を堆積させたのち、透明ガラス化することでクラッド層を形成したガラス導波路において、コアを覆う第1多孔質クラッド層はP2 O5 を含有せずB2 O3 を含有させ、第1多孔質クラッド層を覆う第2多孔質クラッド層はP2 O5 とB2 O3 の両方を含有させたことにより、拡散後の仕上り状態において、屈折率の均一なガラスクラッド層を形成する。

Claim (excerpt)：

シリカガラス基板またはシリカ系ガラスが形成されたシリコン基板上にコアを形成し、コアを覆うようにSiO2 を主成分とする多孔質ガラスのクラッドとなる層を堆積させたのち、透明ガラス化することでガラスクラッド層を形成するガラス導波路の製造法において、コア直上にB2 O3 を含有し、P2 O5 を含有しない第1多孔質クラッド層を形成し、第1多孔質クラッド層を覆ってP2 O5 及びB2 O3 を含有する第2多孔質クラッド層を形成し、その後拡散により屈折率の均一なガラスクラッド層とすることを特徴とするガラス導波路の製造法。

IPC (3)：

G02B 6/12 ,  C03B 19/01 ,  C03C 17/34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ガラス薄膜の製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-015102   Applicant：住友電気工業株式会社
• 特開昭57-139708
  
• 特開昭62-124511