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J-GLOBAL ID：200903087711211660

基板の洗浄方法および洗浄装置

Inventor： 垣貫 剛広 ,  富松 伸二 ,  鈴木 哲男 ,  後藤 哲哉
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998145852
Publication number (International publication number)：1999333394
Application date： May. 27, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】基板上にある異物を効果的に除去する基板の洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、基板に該紫外光を一定時間照射し、その後、該基板をアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。

Claim (excerpt)：

発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、基板に該紫外光を一定時間照射し、その後、該基板をアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (8)：

B08B 7/00 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/04 ,  B08B 11/04 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 505

FI (8)：

B08B 7/00 ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 7/04 A ,  B08B 11/04 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光重合性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-239317   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 半導体基板のオゾン洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-226677   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
• 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-237294   Applicant：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック
• 基板の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-216035   Applicant：島田理化工業株式会社