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J-GLOBAL ID：200903087736962318

シリコーン樹脂それを含む組成物、ケイ酸ガラス系無機膜の形成方法

Inventor：
伊東 敏雄

About 伊東 敏雄


Applicant, Patent owner：
沖電気工業株式会社

About 沖電気工業株式会社


Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994255077
Publication number (International publication number)：1996120084
Application date： Oct. 20, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：
【要約】【目的】 従来より温和な条件で熱的安定性が良いケイ酸ガラス系無機膜を形成する方法を提供する。しかも、体積収縮率の少ないケイ酸ガラス系無機膜を形成する方法を提供する。【構成】 置換基の一部がメトキシル基であって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)でシリコーン樹脂を構成する。このシリコーン樹脂と、酸発生剤とでシリコーン樹脂組成物を構成する。この組成物の皮膜を基板上に塗布し所定の露光をし、加熱し、現像する。
Claim (excerpt)：
置換基の全てが下記に示した置換基のいずれかであるポリ(シロキサン)、或は、置換基の一部が下記に示した置換基のいずれかであって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)で構成したことを特徴とするシリコーン樹脂。メトキシル基、エトキシル基、n-プロポキシル基、2-プロポキシル基。
IPC (9)：
C08G 77/14 NUG ,  C08K 5/36 ,  C08K 5/521 ,  C08K 5/55 ,  C08L 83/06 LRT ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/11 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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