感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：若林邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994055902
Publication number (International publication number)：1995261388
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】解像度、耐めっき液性、はんだ耐熱性、電気絶縁性、耐電食性等に優れた無電解銅めっき用フォトレジストとして好適な感光性樹脂組成物、この組成物の層とこの層を支持する支持体フィルムを有する感光性エレメント及びめっきレジストの製造法を提供する。【構成】 (A)一般式(I)〔Pは50以上の整数を表す〕で示される繰り返し単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂中の水酸基に対して、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を、当量比(酸無水物基/水酸基)0.08〜0.8の範囲として反応させて得られるカルボキシル基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個含有する光重合性不飽和化合物、(C)アミノ樹脂、(D)活性光により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び(E)チオール基を1個含有するヘテロ環状化合物を含有する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法。

Claim (excerpt)：

(A)一般式(I)【化1】〔式中、R1は2価の飽和脂肪族炭化水素基を表し、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、x及びyはそれぞれ独立に0〜4の整数である〕で示される繰り返し単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂中の水酸基に対して、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を、当量比(酸無水物基/水酸基)=0.08〜0.8の範囲として反応させて得られるカルボキシル基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物20〜90重量部、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個含有する光重合性不飽和化合物80〜10重量部(ただし、(A)成分及び(B)成分の総量を100重量部とする)、(C)アミノ樹脂1〜30重量部(ただし、(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対して)、(D)活性光により遊離ラジカルを生成する光開始剤0.01〜20重量部(ただし、(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対して)及び(E)チオール基を1個含有するヘテロ環状化合物0〜7重量部(ただし、(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対して)を含有する感光性樹脂組成物。

IPC (9)：

G03F 7/032 , G03F 7/004 501 , G03F 7/027 502 , G03F 7/031 , G03F 7/037 , G03F 7/30 , H05K 3/00 , H05K 3/18 , H05K 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-082569 Applicant：日立化成工業株式会社
特開平2-209980
特開昭62-184056

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