Pat

J-GLOBAL ID：200903087781915487

オゾン濃度制御方法

Inventor： 野田 清治 ,  葛本 昌樹 ,  宮本 誠 ,  大家 泉 ,  江崎 謙治 ,  石川 政幸
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 宮田 金雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999132388
Publication number (International publication number)：2000317284
Application date： May. 13, 1999
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 オゾン水流量が変動したとき、オゾン水濃度の変動が速やかに収束するオゾン濃度制御方法を提供する。【解決手段】 オゾンを含むオゾン含有ガスを生成するオゾン生成部2と、オゾン含有ガス中のオゾンを被処理水中に溶解しオゾン水を生成するオゾン溶解部1を備えたオゾン製造装置を用いて、オゾン溶解部1の生成するオゾン水のオゾン濃度に基づいてオゾン溶解部1中のオゾン含有ガスの圧力を調節し、オゾン水のオゾン濃度を一定に保つように制御する。

Claim (excerpt)：

オゾンを含むオゾン含有ガスを生成するオゾン生成部と、前記オゾン含有ガス中のオゾンを被処理水中に溶解しオゾン水を生成するオゾン溶解部とを備えたオゾン水製造装置のオゾン濃度制御方法において、前記オゾン溶解部の生成するオゾン水のオゾン濃度に基づいて前記オゾン溶解部内の前記オゾン含有ガスの圧力を調節し、前記オゾン水のオゾン濃度を一定に保つように制御することを特徴とするオゾン濃度制御方法。

IPC (4)：

B01F 1/00 ,  C01B 13/10 ,  C01B 13/11 ,  C02F 1/78

FI (4)：

B01F 1/00 A ,  C01B 13/10 D ,  C01B 13/11 K ,  C02F 1/78

F-Term (8)：

4D050AA01 ,  4D050BB02 ,  4D050BD04 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G035AE01 ,  4G042CB26 ,  4G042CE01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• オゾン水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-163510   Applicant：トキコ株式会社
• 特開昭61-291097
  
• オゾン水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-021465   Applicant：石川島芝浦機械株式会社, 石川島播磨重工業株式会社