紫外線照射による緻密化が抑制された石英ガラス部材

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995164039
Publication number (International publication number)：1997012323
Application date： Jun. 29, 1995
Publication date： Jan. 14, 1997
Summary：

【要約】【目的】紫外線照射による屈折率の上昇や歪の発生、表面の凹みが抑制された石英ガラス光学部材を提供する。【構成】 OH基濃度が200ppm以下であって、紫外線照射による構造の緻密化が抑制された石英ガラス光学部材を、ステッパ等の紫外線光学系に用いる。

Claim (excerpt)：

OH基濃度が200ppm以下である石英ガラス部材であって、400nm以下の特定波長領域の紫外線照射による構造の緻密化が抑制されたことを特徴とする石英ガラス光学部材。

IPC (3)：

C03B 20/00 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (3)：

C03B 20/00 , G03F 1/14 B , H01L 21/30 515 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

エキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-190143 Applicant：信越化学工業株式会社, 信越石英株式会社
特開平3-101282
特開平3-088742

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