微細流路の側壁に形成されたMOSFETよりなる物質検出用チップ、これを含む物質検出装置、及び物質検出装置を利用した物質検出方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：八田幹雄 , 野上敦 , 奈良泰男 , 齋藤悦子 , 宇谷勝幸
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002583675
Publication number (International publication number)：2004520595
Application date： Apr. 23, 2002
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：

本発明は、微細流路の側壁に形成されたMOSFETで構成された物質検出用チップ及びこれを含む物質検出用装置に関する。MOSFETが微細流路の側壁に形成されているために物質検出用チップの高集積化が容易である。本発明による物質検出用チップを利用する場合、プローブがゲート電極表面に直接吸着されるのでインサイチュでプローブの結合を確認でき、プローブにターゲット分子が結合されているかどうかもインサイチュで検出できる。また、本発明は、前記物質検出用装置を利用した物質検出方法、具体的には物質プローブの固定化や物質プローブとターゲット試料との結合程度を定量的に検出する方法に関する。また、本発明は、前記物質検出用装置にヒーター及び温度センサーが同時に装着された温度制御-検出部を含む核酸突然変異分析装置及びこれを利用した核酸突然変異分析方法に関する。本発明によれば、MOSFET型センサーに付着された核酸のTm温度で変性された二重線核酸または復元された二重線核酸を検出することによって、核酸の突然変異、特に核酸のSNPを効果的に検出できる。

Claim (excerpt)：

半導体基板と、前記基板表面に形成され、物質試料の通路になる微細流路と、前記微細流路の側壁に形成されたMOSFETとを含む物質検出装置用チップ。

IPC (10)：

G01N27/414 , C12M1/00 , C12M1/34 , C12N15/09 , C12Q1/68 , G01N27/28 , G01N27/416 , G01N27/42 , G01N33/53 , G01N37/00

FI (20)：

G01N27/30 301K , C12M1/00 A , C12M1/34 B , C12Q1/68 A , G01N27/28 321Z , G01N27/42 M , G01N33/53 M , G01N37/00 101 , G01N37/00 102 , C12N15/00 F , G01N27/30 301W , G01N27/30 301E , G01N27/30 301Y , G01N27/30 301R , G01N27/30 301L , G01N27/30 301M , G01N27/30 301N , G01N27/30 301U , G01N27/30 301V , G01N27/46 336M

F-Term (24)：

4B024AA11 , 4B024CA01 , 4B024CA11 , 4B024HA08 , 4B024HA11 , 4B029AA07 , 4B029BB15 , 4B029BB20 , 4B029CC03 , 4B029FA02 , 4B029FA12 , 4B063QA01 , 4B063QA18 , 4B063QQ42 , 4B063QQ52 , 4B063QR08 , 4B063QR32 , 4B063QR42 , 4B063QR55 , 4B063QR82 , 4B063QS32 , 4B063QS34 , 4B063QS36 , 4B063QX04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

生体関連高分子の固定化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-238922 Applicant：住友金属工業株式会社
流体流れ中の物理的および化学的パラメータを連続的に測定するための装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-532442 Applicant：フアーマシア・バイオテツク・アー・ベー

Cited by examiner (2)

生体関連高分子の固定化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-238922 Applicant：住友金属工業株式会社
流体流れ中の物理的および化学的パラメータを連続的に測定するための装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-532442 Applicant：フアーマシア・バイオテツク・アー・ベー

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