ホイスラー合金薄膜の製造方法、磁性膜を備えた積層膜、それを利用した磁気抵抗効果素子および固体磁気記録素子

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995054202
Publication number (International publication number)：1996250366
Application date： Mar. 14, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】ホイスラー合金薄膜を低温でも有効に形成することができるホイスラー合金薄膜の製造方法、およびこのようなホイスラー合金薄膜で構成された磁性膜を備えた積層膜、ならびにこのような積層膜を利用した磁気抵抗効果素子および固体磁気記録素子を提供する。【構成】体心立方格子構造を有する金属膜を下地として形成し、その上にホイスラー合金薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

体心立方格子構造を有する金属からなる下地の上にホイスラー合金薄膜を形成することを特徴とするホイスラー合金薄膜の製造方法。

IPC (6)：

H01F 41/18 , C23C 14/14 , G11B 5/66 , H01F 10/26 , H01L 43/08 , H01L 43/10

FI (6)：

H01F 41/18 , C23C 14/14 F , G11B 5/66 , H01F 10/26 , H01L 43/08 Z , H01L 43/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平1-296446
磁気抵抗効果素子薄膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-200748 Applicant：日本電気株式会社
薄膜磁気ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-300681 Applicant：株式会社東芝

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