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J-GLOBAL ID：200903088224883374

透明導電膜の製造方法

Inventor：
都藤 靖泰

About 都藤 靖泰

, 
東谷 公

About 東谷 公

, 
神田 陽一

About 神田 陽一


Applicant, Patent owner：
国立大学法人京都大学

About 国立大学法人京都大学


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006196376
Publication number (International publication number)：2008027636
Application date： Jul. 19, 2006
Publication date： Feb. 07, 2008
Summary：
【課題】 本発明は、優れた導電性、透明性を持つ透明導電フィルムを低温条件で提供することのできる製造方法を提案することを目的とする。【解決手段】 透明基板(A)の表面上に高分子微粒子(B)を配列し、加熱または圧力により高分子微粒子(B)を変形させ高分子微粒子(B)と透明基板(A)との間にできる空隙からなる鋳型(C)を形成し、該鋳型(C)内の透明基板(A)上に無電解めっき処理により金属(D0)層を形成させることを特徴とする、透明基板(A)の表面に網目状に形成された導電層(D)からなる導電パターン(E)を有する透明導電膜の製造方法である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
透明基板(A)の表面上に高分子微粒子(B)を配列し、加熱または圧力により高分子微粒子(B)を変形させ高分子微粒子(B)と透明基板(A)との間にできる空隙からなる鋳型(C)を形成し、該鋳型(C)内の透明基板(A)上に無電解めっき処理により金属(D0)層を形成させることを特徴とする、透明基板(A)の表面に網目状に形成された導電層(D)からなる導電パターン(E)を有する透明導電膜の製造方法。
IPC (2)：
H01B 13/00 ,  C23C 18/31
FI (3)：
H01B13/00 503B ,  C23C18/31 Z ,  H01B13/00 503D
F-Term (17)：
4K022AA31 ,  4K022AA37 ,  4K022AA41 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA07 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA35 ,  4K022CA08 ,  4K022CA25 ,  4K022DA01 ,  4K022DB30 ,  5G323BA01 ,  5G323BB06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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