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J-GLOBAL ID：200903088260542834

指紋照合方法及び指紋照合装置

Inventor： 奈良崎 高一
Applicant, Patent owner： 富士通電装株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997243779
Publication number (International publication number)：1999085994
Application date： Sep. 09, 1997
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 指紋照合により本人確認を行う指紋照合方法及び指紋照合装置に関し、全体のセキュリティを維持して難照合者の照合率を向上する。【解決手段】 指紋押捺台8に押捺した指紋をカメラ9で撮像する指紋撮像部1からの多値画像信号を画像処理部2の二値化部11により二値化し、細線検出部13により注目画素と同一種類の画素が注目画素を中心とした細線検出マスクパターンによって検索して細線画素を検出し、細線画素数計数部14により計数し、計数した細線画素数が判定閾値以上か否かを判定部15で判定し、判定閾値以上の時に難照合者として、登録指紋に難照合者情報を付加して登録ファイル4に登録し、指紋照合時に登録ファイル4から読出した登録指紋に難照合者情報が付加されている時に、指紋照合部3の照合判定レベル設定部17に設定する照合判定レベルを低く設定して、撮像指紋と登録指紋とを照合部16で照合する。

Claim (excerpt)：

押捺指紋を撮像した撮像指紋と登録指紋とを照合する指紋照合方法に於いて、押捺指紋を撮像した撮像指紋画像を、注目画素を中心として該注目画素と同一種類の2個の画素が含まれる細線検出マスクパターンを用いて検索し、該細線検出マスクパターンと一致するパターンの注目画素を細線画素として計数し、該細線画素数が閾値以上の時に難照合者と判定する過程を含むことを特徴とする指紋照合方法。

FI (2)：

G06F 15/62 460 ,  G06F 15/70 460 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平4-123276
  
• 指紋照合装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-263246   Applicant：日本電気セキュリティシステム株式会社