レジスト用現像原液および現像液

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川洋子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995097593
Publication number (International publication number)：1995319170
Application date： Mar. 31, 1995
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【目的】品質安定性に優れ、取り扱い、品質管理が容易な高濃度のレジスト用現像原液と、これを希釈して得られる、現像処理において低起泡性、消泡性に極めて優れるとともに、均一な濡れ性に優れ、かつマスクパターンに忠実なレジストパターンが形成できるレジスト用現像液とを提供する。【構成】金属イオンを含まない有機塩基と、重量平均分子量が100〜1000であって、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種とを配合してなるレジスト用現像原液、およびこの現像用原液を所要濃度に希釈してなるレジスト用現像液。

Claim (excerpt)：

所要濃度に希釈してレジスト用現像液を調製するための高濃度のレジスト用現像原液であって、金属イオンを含まない有機塩基と、重量平均分子量が100〜1000であって、ポリエチレンオキシド化合物、ポリプロピレンオキシド化合物およびエチレンオキシド・プロピレンオキシド付加物の中から選ばれる少なくとも1種とを含有することを特徴とする、レジスト用現像原液。

IPC (2)：

G03F 7/32 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭63-170640
特公平4-051020
特公平4-051821

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