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J-GLOBAL ID:200903088284839455

ナノワイヤの成長並びに他の用途のための触媒ナノ粒子の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  西山 清春
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004548369
Publication number (International publication number):2006504519
Application date: Oct. 10, 2003
Publication date: Feb. 09, 2006
Summary:
ナノワイヤの成長に用いるための、ナノスケールの大きさの触媒領域からなる所定のパターンを形成する方法を提供する。当該方法は、非触媒材料によって包囲された触媒ナノアイランドあるいはナノスケールの触媒材料領域からなるアレイを製造するための、1つ又は複数のナノインプリンティングステップを包含する。
Claim (excerpt):
基材上に触媒ナノ粒子のアレイを形成する方法であって、 i)所望のパターンを形成するナノスケールの凸部を備える鋳型を設けること、 ii)前記凸部を触媒材料でコーティングすること、及び iii)前記触媒材料を前記基材に接触させることによって、前記所望のパターンの触媒材料を基材に転写すること、 を包含する、方法。
IPC (9):
B01J 37/02 ,  B01J 35/02 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  C01B 33/029 ,  C01B 33/03 ,  C30B 29/06 ,  C30B 29/62 ,  D01F 9/08
FI (9):
B01J37/02 301P ,  B01J35/02 H ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  C01B33/029 ,  C01B33/03 ,  C30B29/06 504F ,  C30B29/62 Z ,  D01F9/08 Z
F-Term (50):
4G072AA01 ,  4G072BB04 ,  4G072GG01 ,  4G072HH04 ,  4G072HH07 ,  4G072KK07 ,  4G072MM01 ,  4G072RR01 ,  4G072UU01 ,  4G077AA04 ,  4G077BA04 ,  4G077DB01 ,  4G077EE01 ,  4G077EE07 ,  4G077HA05 ,  4G077HA15 ,  4G077TA02 ,  4G077TA04 ,  4G077TK04 ,  4G077TK08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA13B ,  4G169BA17 ,  4G169BB02B ,  4G169BC31B ,  4G169BC32B ,  4G169BC33B ,  4G169BC35B ,  4G169BC50B ,  4G169BC62B ,  4G169BC68B ,  4G169BC72B ,  4G169BC75B ,  4G169BD05B ,  4G169CB81 ,  4G169DA05 ,  4G169EA08 ,  4G169EB14Y ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4L037CS16 ,  4L037FA02 ,  4L037FA20 ,  4L037PA03 ,  4L037PA05 ,  4L037PA18 ,  4L037PA21 ,  4L037PA28 ,  4L037UA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 特許第6365059号
Cited by examiner (1)
  • 特許第6365059号
Article cited by the Patent:
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