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J-GLOBAL ID:200903088353345176
超電導部品の作製方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
越場 隆
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994225709
Publication number (International publication number):1996070144
Application date: Aug. 26, 1994
Publication date: Mar. 12, 1996
Summary:
【要約】【構成】 酸化物超電導薄膜で構成された超電導部材を有する超電導部品を作製する場合に、チャンバ内でレーザアブレーション法で超電導部材の概形をなす酸化物超電導薄膜を成膜し、連続してチャンバ内の酸化物超電導薄膜をレーザで加工する。【効果】 酸化物超電導薄膜を使用した超電導部品が同一のチャンバ内から、搬出することなく作製可能である。
Claim (excerpt):
酸化物超電導体薄膜で構成された超電導部材を含む超電導部品を作製する方法において、チャンバ内でターゲットにレーザ光を照射して、前記ターゲットに対向して配置した基板上に薄膜を成長させるレーザアブレーション法により成膜した酸化物超電導薄膜で前記超電導部材の概形を形成し、前記チャンバ内で連続してレーザ光を前記酸化物超電導薄膜に照射して該酸化物超電導薄膜を該レーザ光により超電導部材に加工することを特徴とする超電導部品の作製方法。
IPC (5):
H01L 39/24 ZAA
, C01B 13/14 ZAA
, C23C 14/28 ZAA
, C23C 14/58 ZAA
, H01B 13/00 565
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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直流磁束量子干渉計の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-332209
Applicant:株式会社小松製作所
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特開平2-221120
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