3次元形状測定装置および3次元形状測定方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人プロスペック特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008046549
Publication number (International publication number)：2009204425
Application date： Feb. 27, 2008
Publication date： Sep. 10, 2009
Summary：

【課題】レーザー光走査により広範に3次元形状測定を行うことができる3次元形状測定において、3次元形状に色彩や陰影を付しても精度が良好な3次元形状測定を行うこと。【解決手段】測定対象物表面の色彩や陰影を表す明度データM(n)は出射レーザー光強度データI(n)に基づいて計算される。この出射レーザー光の強度は、補正信号発生回路122およびレーザー光量補正回路124によりフォトセンサ112にて受光する反射光強度が基準反射光強度となるように制御される。反射光強度が一定とされるので、反射率の高低により3次元形状データの計算が不可能となる部分を少なくすることができ、精度の良い3次元形状測定を行うことができる。さらに、レーザー光の照射方向を走査用光学系106で走査する方式にて測定対象物の3次元形状測定および明度計算を行うので、広い領域で測定対象物OBの3次元形状測定および明度計算を行うことができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象物に向けてレーザー光源からレーザー光を出射して前記測定対象物の表面に照射スポットを形成するレーザー光照射手段と、レーザー光の照射方向または前記レーザー光源の位置を変化させることにより、前記照射スポットを移動させるレーザー光照射位置変更手段と、前記照射スポットにおける散乱光の一部である反射光を受光し、前記レーザー光源から前記照射スポットの形成部位である照射ポイントまでの距離に応じた信号を出力する受光器と、前記レーザー光照射位置変更手段により変化するレーザー光の照射方向または前記レーザー光源の位置と前記受光器が出力する信号とに基づいて、前記照射ポイントの座標値である3次元形状データを生成する3次元形状データ生成手段とを備えた3次元形状測定装置において、前記受光器に入射する反射光の強度を検出する反射光強度検出手段と、前記反射光強度検出手段により検出された反射光の強度が設定された強度になるように前記レーザー光源が出射するレーザー光の強度を制御する出射レーザー光強度制御手段と、前記出射レーザー光強度制御手段により制御されたレーザー光の強度に基づいて前記照射ポイントの明度を計算する明度計算手段と、前記3次元形状データおよび前記明度に基づいて前記測定対象物の3次元画像を生成する3次元画像生成手段とを備えることを特徴とする3次元形状測定装置。

IPC (1)：

G01B 11/24

FI (1)：

G01B11/24 A

F-Term (33)：

2F065AA53 , 2F065BB05 , 2F065DD04 , 2F065DD05 , 2F065DD11 , 2F065EE03 , 2F065FF01 , 2F065FF02 , 2F065FF09 , 2F065FF17 , 2F065FF44 , 2F065FF67 , 2F065GG06 , 2F065HH03 , 2F065HH04 , 2F065JJ02 , 2F065JJ05 , 2F065JJ07 , 2F065JJ18 , 2F065JJ25 , 2F065LL13 , 2F065LL15 , 2F065MM16 , 2F065NN02 , 2F065NN16 , 2F065QQ03 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ26 , 2F065QQ51 , 2F065SS02 , 2F065SS13 , 2F065UU01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

3次元測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-221801 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
3次元画像生成装置及び同方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-284518 Applicant：パルステック工業株式会社
3次元計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-079431 Applicant：ミノルタ株式会社

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Cited by examiner (3)

光ビーム照射測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-331902 Applicant：パルステック工業株式会社
3次元測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-221801 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
3次元画像生成装置及び同方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-284518 Applicant：パルステック工業株式会社

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