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J-GLOBAL ID：200903088468545810

真空スパッタリング装置用ア-ク防止装置

Inventor： ヨーハン・シュトュルマー ,  ミヒャエル・リューベフーゼン ,  ゲルノート・トルン
Applicant, Patent owner： レイボルト・アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993251961
Publication number (International publication number)：1994220629
Application date： Oct. 07, 1993
Publication date： Aug. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は、真空スパッタリング装置におけるア-ク防止装置に関するものである。【構成】スパッタリング装置1のカソ-ド5を、所定の時間間隔において正電位にするパルス発生装置を具備することにより、タ-ゲット7上に層の退位が発生する。この退位はア-クを導きうる高電圧の蓄積を防止することができる。

Claim (excerpt)：

真空スパッタリング装置におけるカソ-ドに負電位を供給する直流電源と、所定の時間間隔においてカソ-ドの電位を所定正電位分上げる構成を具備し、前記構成がカソ-ドに接続されたパルス電源であることを特徴とする真空スパッタリング装置用ア-ク防止装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 炭素フィルムをスパタリングする方法及びその製造物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-077740   Applicant：コマッグ・インコーポレイテッド
• 特表平5-506327
  
• 高周波装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-136830   Applicant：日本電子株式会社

Cited by examiner (1)

• 炭素フィルムをスパタリングする方法及びその製造物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-077740   Applicant：コマッグ・インコーポレイテッド