投影光学装置の調整方法及び露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995009687
Publication number (International publication number)：1996203805
Application date： Jan. 25, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】複雑な組立調整を行うことなく、ディストーションのランダム成分を補正すること。【構成】所定の被加工部材を光路中に有する投影光学系における残存ディストーション成分を計測する第1工程と、第1工程の計測結果に基づいて、前記残存ディストーション成分を相殺する如き前記被加工部材の表面形状を算出する第2工程と、被加工部材を前記投影光学系から取り出し、前記第2工程にて算出された表面形状となるように前記被加工部材を加工する第3工程と、第3工程にて加工された前記被加工部材を前記投影光学系の光路中に挿入する第4工程とを有する調整方法を投影光学装置に施す。

Claim (excerpt)：

所定の被加工部材を光路中に有する投影光学系における残存ディストーション成分を計測する第1工程と、前記第1工程の計測結果に基づいて、前記残存ディストーション成分を相殺する如き前記被加工部材の表面形状を算出する第2工程と、前記被加工部材を前記投影光学系から取り出し、前記第2工程にて算出された表面形状となるように前記被加工部材を加工する第3工程と、前記第3工程にて加工された前記被加工部材を前記投影光学系の光路中に挿入する第4工程とを有する投影光学装置の調整方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 514 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭62-035619
投影露光方法とそのための装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-060273 Applicant：富士通株式会社
特開昭59-144127

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