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J-GLOBAL ID：200903088672805570

感光性組成物

Inventor： デイヴィッド・ブゾゾウィ ,  コーカーブ・ジェイ・トマス ,  ジョン・ピー・ハットフィールド ,  ロレンス・フェレイラ ,  アンドルー・ブレイクニー
Applicant, Patent owner： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
Agent (3)： 高木 千嘉 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004518240
Publication number (International publication number)：2005534956
Application date： Jun. 19, 2003
Publication date： Nov. 17, 2005
Summary：

e)構造(A)の化合物を1つまたはそれ以上含有する第1の光酸発生剤(PAG)化合物P1;f)構造(B)の化合物を1つまたはそれ以上含有する第2の光酸発生剤化合物P2;およびg)そのアルカリ溶解性が酸感受性部分の存在によって抑えられまたはそのアルカリ溶解性が酸、場合によっては熱による処理によって取り戻されるポリマー成分を含むポリマーであって、それが、モノマー単位(C)を含むポリマー1つまたはそれ以上からなるもの;およびh)溶媒を含む、基板上にパターン化された画像を作成するのに使用するための放射線感受性組成物。すべての化学式構造は明細書中に定義されている。

Claim (excerpt)：

a)構造(A)の化合物を1つまたはそれ以上含む第1の光酸発生剤(PAG)化合物P1; b)構造(B)の化合物を1つまたはそれ以上含む第2の光酸発生剤化合物P2; c)酸感受性部分の存在によってアルカリ溶解性が抑えられ、また酸および場合によっては熱での処理によってアルカリ溶解性が取り戻されるアルカリ可溶性樹脂成分を含むポリマー成分であって、このポリマーが、モノマー単位(C)を含む1つまたはそれ以上のポリマーからなるもの;および d)溶媒 を含む放射線感受性組成物であって、ここで構造(A)は式:

IPC (5)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (24)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096HA01 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• フッ素化されたイオン性スルホニルイミド及びスルホニルメチリド、それらの製造方法並びに光開始剤としての使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-271624   Applicant：アラン・ヴァレー, ミシュル・アルマン, グザヴィエ・オリヴラン, クリストフ・ミショト
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-150217   Applicant：富士写真フイルム株式会社