ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000150217
Publication number (International publication number)：2001330947
Application date： May. 22, 2000
Publication date： Nov. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)活性光線または放射線の照射により、特定のスルフォンイミド化合物を発生する化合物、及び、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線または放射線の照射により、下記式(I)で表される化合物を発生する化合物、及び、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(上記一般式(I)中、Yは、単結合、-CO-、または、-SO2-を表す。R’及びR”は、同一でも異なっていてもよく、置換していても良い直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換していてもよいアリール基、置換していてもよいアラルキル基、または、樟脳基を表す。R’とR”が結合し、アルキレン基、アリーレン基、または、アラルキレン基を形成し、式(I)の構造が環を形成してもよい。Yが-CO-基の場合、R”は水酸基、アルコキシ基でもよい。)

IPC (11)：

G03F 7/004 503 , C07C 25/18 , C07C381/12 , C07D275/06 , C08K 5/13 , C08K 5/16 , C08K 5/43 , C08L 25/02 , C08L 25/16 , C08L101/00 , H01L 21/027

FI (11)：

G03F 7/004 503 A , C07C 25/18 , C07C381/12 , C07D275/06 , C08K 5/13 , C08K 5/16 , C08K 5/43 , C08L 25/02 , C08L 25/16 , C08L101/00 , H01L 21/30 502 R

F-Term (38)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB42 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 4C033AA06 , 4C033AA12 , 4C033AA17 , 4H006AA01 , 4H006AB92 , 4J002BC12W , 4J002BC12X , 4J002CP093 , 4J002EB069 , 4J002EJ027 , 4J002EJ067 , 4J002EJ077 , 4J002EN028 , 4J002EN038 , 4J002ER028 , 4J002EU028 , 4J002EU048 , 4J002EU078 , 4J002EU128 , 4J002EU238 , 4J002EV296 , 4J002FD313 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-066664 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-070372 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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