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J-GLOBAL ID：200903088686768570
化学増幅型レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996018008
Publication number (International publication number)：1997211846
Application date： Feb. 02, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：
【要約】【課題】 酸の発生効率が高く、かつ感度に優れ、パターン形状、寸法忠実性、露光余裕度及び耐熱性などに優れるレジストパターンを与えるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤含有化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成成分、及び(B)一般式【化1】(Rは炭化水素基又は置換基を有する炭化水素基)で表わされるオキシムスルホネート基を分子内に2個又は3個有するオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物とする。
Claim (excerpt)：
(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化する被膜形成成分、及び(B)一般式【化1】(式中のRは炭化水素基又は置換基を有する炭化水素基である)で表わされるオキシムスルホネート基を分子内に2個又は3個有するオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/004 503
, C07C307/02
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
G03F 7/004 503
, C07C307/02
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/30 502 R
