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J-GLOBAL ID：200903018702108731

マイクロリトグラフィックレジスト組成物、酸不安定化合物、マイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法及び酸感知性ポリマー組成物

Inventor： ウイリアム ロス ブランスヴォルド ,  ジェイムズ トーマス ファヘイ ,  ジョージ ジョゼフ ヘッフェロン ,  ウ-ソン フアン ,  プレムラサ ジャガナサン ,  アーマド ダウオド カトナニ ,  マーモウド エム.コージャステー ,  ラニー ワイ-リン クウォン ,  キム ヤン リー ,  ハーバンス スィングー サシュデヴ ,  クリシュナ ガンディー サシュデヴ ,  ラトナム スーリヤクマラン ,  ロバート ラヴィン ウッド
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994093265
Publication number (International publication number)：1995140666
Application date： May. 02, 1994
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 環境汚染物との不利な反応を受けにくく、かつ露光と露光後焼付け又は露光後焼付けと現像との間の可変の又は長い遅延に対する許容度を高める。【構成】 水性塩基現像可能なマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、化学的に結合される反復ヒドロキシル基を有するポリヒドロキシスチレンのようなフィルム形成ポリマーと、2-(2-メトキシプロピル)のようなケタール成分を含む酸不安定化合物と、化学線への露光により酸を形成するN-(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)-ニトロナフタルイミドのような酸発生化合物と、を含み、露光により発生した酸がケタール成分を含む前記化合物の少なくとも一部の開裂を引き起こし、露光された組成物が未露光組成物と比較して水性塩基に選択的に、より可溶性となる。

Claim (excerpt)：

水性塩基現像可能なマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、(a)化学的に結合される反復ヒドロキシル基を有するフィルム形成ポリマーと、(b)ケタール成分を含む酸不安定化合物と、(c)化学線への露光により酸を形成する酸発生化合物と、を含み、露光により発生した酸がケタール成分を含む前記化合物の少なくとも一部の開裂を引き起こし、露光された組成物が未露光組成物と比較して水性塩基に選択的に、より可溶性となることを特徴とするマイクロリトグラフィックレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 特開平2-177031
  
• 特開平3-289658
  
• 特開平1-154144
  
• 特開平3-087746
  
• 特開平3-206458
  
• 特開平1-106037
  
• 新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173830   Applicant：和光純薬工業株式会社
• 短波長紫外線に感光するポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-185985   Applicant：ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション