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J-GLOBAL ID：200903088739891027

濃度測定方法および装置

Inventor： 伊串 達夫 ,  渡邊 靖 ,  森本 清 ,  昼田 了
Applicant, Patent owner： 株式会社堀場製作所 ,  協和醗酵工業株式会社
Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997287728
Publication number (International publication number)：1999108822
Application date： Oct. 04, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 試料の実際の濃度を短時間にしかも簡単に得ることができる濃度測定方法および装置を提供すること。【解決手段】 光源13からの平行光を試料に照射したときに生ずる散乱光の強度分布と濁度とを同時に測定し、前記散乱光の強度分布から散乱光相当粒度分布を求め、この散乱光相当粒度分布と、前記濁度と、予め求めておいた散乱係数と粒径との関係とを用いることにより試料濃度を得るようにしたことを特徴としている。

Claim (excerpt)：

光源からの平行光を試料に照射したときに生ずる散乱光の強度分布と濁度とを同時に測定し、前記散乱光の強度分布から散乱光相当粒度分布を求め、この散乱光相当粒度分布と、前記濁度と、予め求めておいた散乱係数と粒径との関係とを用いることにより試料濃度を得るようにしたことを特徴とする濃度測定方法。

IPC (4)：

G01N 15/06 ,  G01N 15/02 ,  G01N 21/47 ,  G01N 21/59

FI (4)：

G01N 15/06 C ,  G01N 15/02 A ,  G01N 21/47 Z ,  G01N 21/59 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-115950
  
• 特開平2-024533
  
• 特開昭56-115942
  
• 粒度分布解析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-295818   Applicant：株式会社堀場製作所