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J-GLOBAL ID:200903088843177026
分子吸着材料、該分子吸着材料の製造方法および分子制御方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
志賀 正武
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005129446
Publication number (International publication number):2006305656
Application date: Apr. 27, 2005
Publication date: Nov. 09, 2006
Summary:
【課題】 種々の分子の立体配座や、複数の分子の配列状態を効果的に制御することができる分子制御法と、その際に使用される分子吸着材料および該分子吸着材料の製造方法を提供する。【解決手段】 分子吸着材料に分子を吸着させた後、分子に周波数0.1〜15THzの電磁波を照射し、分子の立体配座および/または分子の配列状態を制御する。分子吸着材料としては、孔径1nm以上100nm以下のメソ孔と該メソ孔の孔壁に形成された孔径0.2nm以上1nm未満のマイクロ孔とからなる細孔が、周期的に形成されたものが好適である。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
分子に周波数0.1〜15THzの電磁波を照射して、前記分子の立体配座および/または前記分子の配列状態を制御する際に、前記分子を吸着するための分子吸着材料であって、
孔径1nm以上100nm以下のメソ孔と該メソ孔の孔壁に形成された孔径0.2nm以上1nm未満のマイクロ孔とからなる細孔が、周期的に形成されていることを特徴とする分子吸着材料。
IPC (3):
B82B 3/00
, B82B 1/00
, C01B 37/00
FI (3):
B82B3/00
, B82B1/00
, C01B37/00
F-Term (13):
4G073BA20
, 4G073BA21
, 4G073BA22
, 4G073BA25
, 4G073BA26
, 4G073BA30
, 4G073BA57
, 4G073BA63
, 4G073BA65
, 4G073CZ53
, 4G073FA15
, 4G073FB01
, 4G073UB60
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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基板の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-065760
Applicant:大日本印刷株式会社
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分子構造制御方法および分子構造制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-294817
Applicant:日本電信電話株式会社
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π電子共役分子の二光子励起による光反応制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-073160
Applicant:財団法人神奈川科学技術アカデミー
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電気双極子を有する分子材料からなるトランジスタ及びセンサ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-517827
Applicant:ヒューレット-パッカードデベロップメントカンパニーエル.ピー.
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Cited by examiner (1)
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基板の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-065760
Applicant:大日本印刷株式会社
Article cited by the Patent: