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J-GLOBAL ID:200903088902900462

複合粒子の製造方法および複合粒子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005230593
Publication number (International publication number):2006082073
Application date: Aug. 09, 2005
Publication date: Mar. 30, 2006
Summary:
【課題】 ある粒子の粒界に他の粒子が均一に分散している複合粒子を安定に製造でき、そのため大量生産も可能な製造方法を提供する。【解決手段】 表面電位が正の微粒子を含有する少なくとも1種の流体と、表面電位が負の微粒子を含有する少なくとも1種の流体とを混合する混合工程を有し、混合工程の前に、微粒子のうちの少なくとも1種の表面に高分子化合物を修飾して、該微粒子の表面電位を調整する表面電位調整工程を有する方法である。混合工程は、微小流路内で行うことが好ましい。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
表面電位が正の微粒子を含有する少なくとも1種の流体と、表面電位が負の微粒子を含有する少なくとも1種の流体とを混合する混合工程を有し、複数種の微粒子からなる複合粒子を製造する方法であって、 前記混合工程の前に、前記微粒子のうちの少なくとも1種の表面に高分子化合物を修飾して、該微粒子の表面電位を調整する表面電位調整工程を有することを特徴とする複合粒子の製造方法。
IPC (1):
B01J 19/00
FI (1):
B01J19/00 N
F-Term (17):
4G075AA27 ,  4G075AA39 ,  4G075BB08 ,  4G075BD05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA14 ,  4G075CA36 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EB31 ,  4G075EB34 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4G075FB06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開昭57-100976号公報
  • 特開昭58-032066号公報
  • セラミックス及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-141824   Applicant:東ソー株式会社
Cited by examiner (4)
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