金属イオン導入ハイドロタルサイト類化合物の製造方法および金属イオン捕捉方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：深井敏和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999184802
Publication number (International publication number)：2001019428
Application date： Jun. 30, 1999
Publication date： Jan. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】金属イオンをハイドロタルサイト類化合物の層間に容易に導入できる金属イオン導入ハイドロタルサイト類化合物の製造方法および金属イオン捕捉方法を提供することである。【解決手段】一般式(1) : [M2+1-x M3+x (OH)2 ]x+(An-)x/n ・yH2 O (1) (式中、M2+は2価の陽イオン、M3+は3価の陽イオン、An-は陰イオン、0.16≦x≦0.33、n≧1、y>0である。)で表されるハイドロタルサイト類化合物に金属塩を加えて、この金属塩中の金属イオンを前記ハイドロタルサイト類化合物の層間に導入することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

一般式(1) : [M2+1-x M3+x (OH)2 ]x+(An-)x/n ・yH2 O (1) (式中、M2+は2価の陽イオン、M3+は3価の陽イオン、An-は陰イオン、0.16≦x≦0.33、n≧1、y>0である。)で表されるハイドロタルサイト類化合物に金属塩を加えて、この金属塩中の金属イオンを前記ハイドロタルサイト類化合物の層間に導入することを特徴とする金属イオン導入ハイドロタルサイト類化合物の製造方法。

IPC (6)：

C01G 1/00 , A01N 59/06 , B01J 20/08 , C01B 25/38 , C01F 7/00 , C08K 9/00

FI (6)：

C01G 1/00 B , A01N 59/06 Z , B01J 20/08 B , C01B 25/38 , C01F 7/00 C , C08K 9/00

F-Term (40)：

4G066AA10D , 4G066AA13D , 4G066AA16B , 4G066AA20B , 4G066AA45D , 4G066AA47A , 4G066AA47B , 4G066AA50D , 4G066AA53A , 4G066AA66B , 4G066AB07D , 4G066AB23D , 4G066AE02D , 4G066BA31 , 4G066CA46 , 4G066DA08 , 4G066EA20 , 4G066FA05 , 4G066FA14 , 4G076AA18 , 4G076AA19 , 4G076AB06 , 4G076AB11 , 4G076BA11 , 4G076BE04 , 4G076DA25 , 4G076DA28 , 4H011AA02 , 4H011BA01 , 4H011BB18 , 4H011BC18 , 4H011DF02 , 4H011DG02 , 4J002AA001 , 4J002DE286 , 4J002FB076 , 4J002FB086 , 4J002FB236 , 4J002FB266 , 4J002FD186

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

アニオン性銀錯イオン含有ハイドロタルサイト類化合物及び抗菌剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-340912 Applicant：レンゴー株式会社
ハイドロタルサイト系化合物及びその製造方法並びに赤外線吸収剤及び農業用フィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-266236 Applicant：富士化学工業株式会社
酸化防止剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-160751 Applicant：株式会社海水化学研究所

Show all

Return to Previous Page