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J-GLOBAL ID：200903089010296800

インクジェット記録ヘッドの作製方法およびインクジェット記録ヘッド

Inventor： 小竹 直志 ,  小泉 幸久 ,  森 豊 ,  片岡 雅樹 ,  鈴木 雅
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 石井 康夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994272370
Publication number (International publication number)：1996132628
Application date： Nov. 07, 1994
Publication date： May. 28, 1996
Summary：

【要約】【目的】 異方性エッチングによりアンダーカットされる領域が大きくなっても、エッチングマスクにクラックが生じることが防止できるインクジェット記録ヘッドの作製方法を提供する。【構成】 シリコン基板1にエッチングマスク2をパターニングした後、エッチング液を用いてエッチングする。エッチング時間が長くなると、図に示すように、エッチングマスク2の下部のアンダーカットされる領域2aが大きくなる。そうすると、マスクパターンの角部にクラックが発生しやすく、クラックからエッチングマスクの下がエッチングされ、形状不良を起こす。本発明では、マスクパターンの開口の角部を曲線状にして、クラックの発生を防止する。

Claim (excerpt)：

第1の基板にノズルとなる溝を形成し、第2の基板と貼り合わせてインクジェット記録ヘッドを作製するインクジェット記録ヘッドの作製方法において、前記第1の基板をエッチングして前記溝を形成する際に、角部を曲線もしくは複数の鈍角で分割した形状としたエッチングマスクを用いてエッチングを行なうことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの作製方法。

IPC (2)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/05

FI (2)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• シリコンウェハーの加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-325999   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 特開平2-153745