ナノホール構造体及びその製造方法、スタンパ及びその製造方法、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに、磁気記録装置及び磁気記録方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：廣田浩一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005061664
Publication number (International publication number)：2005305634
Application date： Mar. 04, 2005
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】磁気ヘッドの書込み電流を増やすことなく高密度記録・高速記録が可能で大容量であり、オーバーライト特性に優れ、均一な特性を有し、特にクロスリードやクロスライト等の問題がなく、極めて高品質な磁気記録媒体等の提供。【解決手段】本発明のナノホール構造体は、金属基材に、ナノホールが規則的に配列してなるナノホール列が一定間隔で配列してなる。隣接するナノホールの間隔の変動係数が10%以下である態様等が好ましい。本発明の磁気記録媒体は、基板上に、該基板面に対し略直交する方向にナノホールが複数形成された多孔質層を有し、該ナノホールの内部に磁性材料を有してなり、該多孔質層が本発明のナノホール構造体である。ナノホールの内部に、軟磁性層と強磁性層とを前記基板側からこの順に有し、該強磁性層の厚みが該軟磁性層の厚み以下である態様等が好ましい。【選択図】図11

Claim (excerpt)：

金属基材に、ナノホールが規則的に配列してなるナノホール列が一定間隔で配列してなることを特徴とするナノホール構造体。

IPC (6)：

B82B1/00 , B82B3/00 , G11B5/65 , G11B5/667 , G11B5/84 , G11B5/858

FI (6)：

B82B1/00 , B82B3/00 , G11B5/65 , G11B5/667 , G11B5/84 Z , G11B5/858

F-Term (10)：

5D006BB07 , 5D006BB08 , 5D006BB09 , 5D006CA03 , 5D006EA02 , 5D112AA02 , 5D112AA05 , 5D112AA18 , 5D112BA06 , 5D112GA29

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

垂直磁気記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-334321 Applicant：富士通株式会社
特開昭52-134706号公報
垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-095898 Applicant：富士通株式会社

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Cited by examiner (4)

構造体、構造体の製造方法、発光デバイス、および発光デバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-123803 Applicant：キヤノン株式会社
特開平3-008108
特開平3-008108

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