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J-GLOBAL ID：200903089198749326

反射体形成用母型とその製造方法および反射体とその製造方法並びに反射型液晶表示装置

Inventor：
高塚 智正

About 高塚 智正

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森池 達哉

About 森池 達哉

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馬上 幸一

About 馬上 幸一

, 
鹿野 満

About 鹿野 満


Applicant, Patent owner：
アルプス電気株式会社

About アルプス電気株式会社


Agent (1)： 志賀 正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998042597
Publication number (International publication number)：1999242105
Application date： Feb. 24, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：
【要約】【課題】 広い角度にわたって高い反射効率が得られ、従来より明るく白い反射体を提供する。【解決手段】 母型用基材の表面に圧子を押圧し、母型用基材表面における圧子の位置を変えながら押圧を繰り返すことにより、母型用基材の型面にその内面が球面の一部をなす多数の凹部を連続して形成し、これを反射体形成用母型とする。そして、この母型の型面の凹凸形状を反対にした型面を持つ転写型を形成し、転写型の型面を反射体用基材の表面に転写し、これを反射体1とする。反射体1の凹部4の深さが0.6μmないし1.2μm、凹部4内面の傾斜角分布が-8度ないし+8度、隣接する凹部4のピッチが26.5μmないし33.5μmの範囲に形成される。
Claim (excerpt)：
母型用基材の表面に内面が球面の一部をなす多数の凹部が連続して形成され、前記凹部の深さが0.6μmないし1.2μmの範囲にあり、前記凹部内面の傾斜角分布が-8度ないし+8度の範囲にあり、隣接する凹部のピッチが26.5μmないし33.5μmの範囲にあることを特徴とする反射体形成用母型。
IPC (5)：
G02B 5/08 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  G02B 5/02 ,  G02F 1/1335 520
FI (5)：
G02B 5/08 B ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  G02B 5/02 B ,  G02F 1/1335 520
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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