誘導結合プラズマ装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：篠部正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998051685
Publication number (International publication number)：1999251088
Application date： Mar. 04, 1998
Publication date： Sep. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】プラズマ形成条件が最適化され、エネルギ-効率が高く、かつ処理速度の速い誘導結合型プラズマ装置を得る。【解決手段】石英製の放電管1Aの内部にガス導入部4Aよりプラズマガスを導入し、放電管1Aの外側に巻装された高周波誘導コイル2Aに高周波電流を通電して高周波磁界を印加し、プラズマガスを熱プラズマ化するものにおいて、放電管1Aの内半径と高周波磁界の周波数の平方根との積が所定範囲の値となるように、放電管1Aの内半径を 8cmとし、MOSFETインバータ10よりなる高周波電源を用いて、高周波誘導コイル2Aに定格周波数 450kHz の高周波電流を通電することとする。

Claim (excerpt)：

電気絶縁性の放電管と、放電管の外側に巻装された高周波誘導コイルと、放電管の一端に組み込まれてガス導入口を備えてなり、ガス導入口から放電管の内部へプラズマガスを導入し、高周波誘導コイルに高周波電流を通電して前記プラズマガスを熱プラズマ化する誘導結合プラズマ装置において、放電管の内半径a〔m〕と高周波誘導コイルに通電する高周波電流の周波数f〔Hz〕の平方根との積a×(f)1/2 が、 40 乃至 80 の範囲にあることを特徴とする誘導結合プラズマ装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

誘導プラズマの発生方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-055361 Applicant：富士電機株式会社, 作田忠裕
特開昭62-086700
特開昭58-182818

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