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J-GLOBAL ID：200903089241843625

パターン形成体の製造方法

Inventor：
小林 弘典

About 小林 弘典

, 
鵜野 雄介

About 鵜野 雄介


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004117162
Publication number (International publication number)：2005300926
Application date： Apr. 12, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：
【課題】 本発明は、カラーフィルタの製造等に用いることが可能な、表面に特性が変化したパターンが形成されたパターン形成体を、効率よく大面積に製造する方法を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターニング用基板を調製するパターニング用基板調製工程と、 少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、前記特性変化層とを所定の間隙となるように配置し、0.1mW/cm2〜10mW/cm2の強度でエネルギーを照射し、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成するエネルギー照射工程と を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基材と、前記基材上に形成され、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターニング用基板を調製するパターニング用基板調製工程と、 少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の前記光触媒含有層と、前記特性変化層とを所定の間隙となるように配置し、0.1mW/cm2〜10mW/cm2の強度でエネルギーを照射し、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成するエネルギー照射工程と を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5)：
G02B5/20 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H05K3/10
FI (5)：
G02B5/20 101 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 E ,  H05B33/14 A ,  H05K3/10 C
F-Term (15)：
2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5E343AA17 ,  5E343AA23 ,  5E343CC20 ,  5E343GG08 ,  5E343GG11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)

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