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J-GLOBAL ID：200903091280714888

パターン形成体の製造方法

Inventor：
小林 弘典

About 小林 弘典


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002227442
Publication number (International publication number)：2004069918
Application date： Aug. 05, 2002
Publication date： Mar. 04, 2004
Summary：
【課題】本発明は、特性の異なるパターンが形成されるパターン形成体の効率的な製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギーを照射し、特性の異なる部位からなるパターンを形成するパターン形成工程を有するパターン形成体の製造方法であって、前記パターン形成工程前に、前記光触媒含有層表面の不純物を分解除去または洗浄する光触媒含有層不純物除去工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記目的を達成するものである。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギーを照射し、特性の異なる部位からなるパターンを形成するパターン形成工程を有するパターン形成体の製造方法であって、前記パターン形成工程前に、前記光触媒含有層表面の不純物を分解除去または洗浄する光触媒含有層不純物除去工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (2)：
G02B5/20 ,  G03F7/20
FI (2)：
G02B5/20 101 ,  G03F7/20 501
F-Term (6)：
2H048BA64 ,  2H048BB14 ,  2H048BB15 ,  2H048BB42 ,  2H097GA45 ,  2H097LA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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