Pat
J-GLOBAL ID:200903089257634384
反射防止部材の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000078183
Publication number (International publication number):2001264510
Application date: Mar. 21, 2000
Publication date: Sep. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 製造工程が簡素で生産性に優れた反射防止部材の製造方法を提供する。【解決手段】 基体シート2上に少なくともハードコート層3が形成された転写材1を基体シート2がキャビティ面に接するように金型9内に設置し、金型9内に溶融樹脂を射出して転写材1と透明基板8とを一体化させ、次いで基体シート2を剥離して透明基板8の片面にハードコート層3が積層された成形品を得、次いでハードコート層3の上に低反射層6を形成する。
Claim (excerpt):
基体シート上に少なくともハードコート層が形成された転写材を基体シートがキャビティ面に接するように金型内に設置し、金型内に溶融樹脂を射出して転写材と透明基板とを一体化させ、次いで基体シートを剥離して透明基板の片面にハードコート層が積層された成形品を得、次いでハードコート層の上に低反射層を形成することを特徴とする反射防止部材の製造方法。
IPC (5):
G02B 1/11
, B29C 45/16
, B44C 1/165
, B29K105:20
, B29L 9:00
FI (5):
B29C 45/16
, B44C 1/165 J
, B29K105:20
, B29L 9:00
, G02B 1/10 A
F-Term (50):
2K009AA04
, 2K009AA07
, 2K009AA15
, 2K009BB11
, 2K009CC03
, 2K009CC06
, 2K009CC32
, 2K009DD02
, 2K009DD03
, 2K009DD06
, 2K009DD08
, 2K009DD09
, 2K009EE01
, 2K009EE05
, 3B005EA01
, 3B005EA18
, 3B005EB05
, 3B005EC14
, 3B005FA02
, 3B005FA04
, 3B005FB11
, 3B005FB61
, 3B005FC05Y
, 3B005FC06Y
, 3B005FC07Y
, 3B005FC08Y
, 3B005FC09Y
, 3B005FE03
, 3B005FE21
, 3B005FG01X
, 3B005FG01Y
, 3B005FG02X
, 3B005FG02Y
, 3B005FG03X
, 3B005FG04X
, 3B005FG06Y
, 3B005FG08X
, 3B005FG10Y
, 3B005FG12Y
, 3B005GA05
, 3B005GA06
, 3B005GB01
, 4F206AD10
, 4F206AD20
, 4F206AD34
, 4F206AF10
, 4F206AG03
, 4F206JB19
, 4F206JF05
, 4F206JW31
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
特開平4-182109
-
光学機能性膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-167371
Applicant:大日本印刷株式会社
-
低反射帯電防止性ハ-ドコ-トフイルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-057845
Applicant:大日本印刷株式会社
-
反射防止用転写箔
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-072265
Applicant:尾池工業株式会社
-
計器用前面板とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-077229
Applicant:日本精機株式会社
-
選択性光線透過膜転写材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-156625
Applicant:尾池工業株式会社
-
カバーガラス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-268597
Applicant:セイコーエプソン株式会社
Show all
Return to Previous Page