Pat
J-GLOBAL ID:200903089444784306
光デバイス
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
深見 久郎 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002016659
Publication number (International publication number):2003215367
Application date: Jan. 25, 2002
Publication date: Jul. 30, 2003
Summary:
【要約】【課題】 フォトニック結晶に特有な性質を利用してフォトニック結晶中に特殊な機能もたせた導波路を形成した光デバイスを提供する。【解決手段】 2種類以上の光の媒質が周期構造を形成してなるフォトニック結晶1の中に、フォトニック結晶のフォトニックバンドギャップ域の周波数を有する光を通すように上記周期構造の配列を満たさないように形成された導波路2を有する導波路装置であって、導波路の所定部分に、光電界の入射エネルギーに対して線形な応答のみではなく2次以上の高次の非線形応答性を有する光学媒質(光学非線形媒質)3,4,5,6,7が配置されている。
Claim (excerpt):
2種類以上の光の媒質が周期構造を形成してなるフォトニック結晶の中に、前記フォトニック結晶のフォトニックバンドギャップ域の周波数を有する光を通すように前記周期構造の配列を満たさないように形成された導波路を有する導波路装置であって、前記導波路の所定部分に、光電界の入射エネルギーに対して線形な応答のみではなく2次以上の高次の非線形応答性を有する光学媒質(光学非線形媒質)が配置されている、光デバイス。
FI (2):
G02B 6/12 Z
, G02B 6/12 N
F-Term (11):
2H047KA03
, 2H047LA11
, 2H047LA18
, 2H047NA01
, 2H047NA02
, 2H047NA07
, 2H047NA08
, 2H047QA02
, 2H047QA05
, 2H047RA08
, 2H047TA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
フォトニックバンドギャップ構造を用いたフォトニック信号の周波数変換
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-542693
Applicant:スカロラ,マイケル, ブローマー,マークジェイ.
-
波長分波回路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-092426
Applicant:日本電気株式会社
-
光ビーム偏向機構
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-185855
Applicant:株式会社東芝
-
自己導波光回路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-221243
Applicant:日本電気株式会社
-
集積光スイッチングデバイスおよび光をスイッチングする方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-400438
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
-
フォトニック結晶干渉計型スイッチ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-253198
Applicant:アジレント・テクノロジーズ・インク
-
特開昭63-148687
-
特開平4-171426
Show all
Return to Previous Page