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J-GLOBAL ID:200903089491720120

3次元変位ひずみ計測方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 良平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006066766
Publication number (International publication number):2007240465
Application date: Mar. 10, 2006
Publication date: Sep. 20, 2007
Summary:
【課題】位相シフトデジタルホログラフィを用いた変位計測において、3次元変位計測を一挙に且つ短時間で行う手法を提供する。また、変位計測手法によって得られた変位分布からひずみ分布を算出する手法も提供する。【解決手段】a) 計測物体に3つの異なる方向から同一波長の物体光を照射し、b) 物体光と同一波長を有する3つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ複数枚、2次元撮像素子で撮影し、c) フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することにより3つの物体光による干渉像を分離し、d) 各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測することにより計測物体の3次元変位を計測する。【選択図】図8
Claim (excerpt):
a) 計測物体に3つの異なる方向から同一波長の物体光を照射し、 b) 物体光と同一波長を有する3つの参照光と計測物体からの反射光との干渉像を、各参照光の位相を互いに異なる速度で物体光に対して変化させつつ複数枚、2次元撮像素子で撮影し、 c) フーリエ変換を用いて位相変化速度の異なる干渉成分を抽出することにより3つの物体光による干渉像を分離し、 d) 各干渉像より、各物体光の照射方向に応じた方向の計測物体の変位分布を計測する ことにより計測物体の3次元変位を計測する方法。
IPC (3):
G01B 11/00 ,  G01B 11/16 ,  G01B 9/021
FI (3):
G01B11/00 G ,  G01B11/16 G ,  G01B9/021
F-Term (59):
2F064AA02 ,  2F064AA11 ,  2F064CC01 ,  2F064DD01 ,  2F064DD09 ,  2F064EE10 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG41 ,  2F064GG44 ,  2F064GG52 ,  2F064GG53 ,  2F064GG61 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ15 ,  2F064LL03 ,  2F065AA04 ,  2F065AA20 ,  2F065AA49 ,  2F065AA53 ,  2F065AA65 ,  2F065BB05 ,  2F065CC14 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065EE05 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065GG22 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL24 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065MM28 ,  2F065PP11 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ42 ,  2F065UU05 ,  2F065UU07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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