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J-GLOBAL ID:200903089563961933
赤外線透過に優れた透明導電膜及びその製造方法
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
坂口 博 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998239858
Publication number (International publication number):2000067657
Application date: Aug. 26, 1998
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 可視光線から赤外線にかけての広い波長領域での光透過率に優れた透明導電膜を提供する。【解決手段】 亜鉛-インジウム酸化物(IZO)を主成分とする膜を、低酸素雰囲気下で加熱処理することで、450〜3200nmの波長領域において、約80%以上の高い透過率を示す透明導電膜を得ることができる。この透明導電膜の抵抗率は、約3.0×10-3Ωcm以下である。このIZOを主成分とする膜は、本質的にアモルファス状あるいは微結晶よりなり、このような膜はスパッタリング法で製膜される。
Claim (excerpt):
基板上に付着された、亜鉛-インジウム酸化物を含む透明導電膜を準備するステップと、前記透明導電膜を、低酸素雰囲気中で加熱するステップとを含む、赤外線波長領域における透過率に優れた透明導電膜を有する構造体の製造方法。
IPC (4):
H01B 5/14
, C23C 14/08
, C23C 14/58
, H01B 13/00 503
FI (4):
H01B 5/14 A
, C23C 14/08 D
, C23C 14/58 A
, H01B 13/00 503 B
F-Term (15):
4K029BA50
, 4K029BB07
, 4K029BB10
, 4K029BC09
, 4K029CA06
, 4K029EA08
, 4K029GA01
, 5G307FA01
, 5G307FA02
, 5G307FB01
, 5G307FC09
, 5G307FC10
, 5G323BA02
, 5G323BB05
, 5G323BC03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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透明導電膜の熱処理方法および透明導電膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-305973
Applicant:株式会社東芝
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