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J-GLOBAL ID：200903089812412015

水素吸蔵用炭素材料、その製造方法およびそれを用いた水素貯蔵装置

Inventor： 小島 由継 ,  河合 泰明
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002027240
Publication number (International publication number)：2003225563
Application date： Feb. 04, 2002
Publication date： Aug. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】 比較的安価で軽量であることに加え、常温における水素吸蔵量が大きい水素貯蔵材料を提供する。また、その水素貯蔵材料を用いて、単位体積当たりの水素吸蔵量が大きい水素貯蔵装置を提供する。【解決手段】 水素貯蔵材料を、比表面積が3000m2/g以上であり、細孔を有し、BJH法により求めた該細孔の細孔モード径が1nm以上2nm以下である水素吸蔵用炭素材料とする。また、水素貯蔵装置を、容器と、該容器に収容された上記水素吸蔵用炭素材料とを含んで構成する。

Claim (excerpt)：

比表面積が3000m2/g以上であり、細孔を有し、BJH法により求めた該細孔の細孔モード径が1nm以上2nm以下である水素吸蔵用炭素材料。

IPC (5)：

B01J 20/20 ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30 ,  C01B 3/00 ,  F17C 11/00

FI (6)：

B01J 20/20 B ,  B01J 20/28 Z ,  B01J 20/30 ,  C01B 3/00 B ,  F17C 11/00 A ,  F17C 11/00 C

F-Term (9)：

4G066AA04B ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066CA38 ,  4G066DA01 ,  4G066FA01 ,  4G066FA21 ,  4G066FA34 ,  4G140AA48

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-247073
  
• 水素吸蔵炭素
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-278767   Applicant：株式会社東芝
• 細孔構造が制御された活性炭およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-304708   Applicant：東京瓦斯株式会社