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J-GLOBAL ID：200903089942803040
光重合性組成物及びこれを用いた硬化塗膜パターンの形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993258619
Publication number (International publication number)：1995114182
Application date： Oct. 15, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：
【要約】【構成】 樹脂1kg中に0.3〜10モルの重合性不飽和基及び0.1〜3モルの非プロトン型オニウム塩含有基を有する芳香族エポキシ樹脂誘導体100重量部に対して、光重合開始剤を0.1〜10重量部及び重合性不飽和単量体を1〜15重量部含有させて光重合性組成物を形成する。また、上記光重合性組成物を用いて硬化塗膜パターンを形成する際には、基板上に上記光重合性組成物を塗膜形成し、形成された塗膜を乾燥せしめ、上記塗膜に所望の回路パターンを有するフォトマスクを介して露光し、上記塗膜を水で洗浄して未露光部分を除去した後、回路パターンを有する塗膜を加熱処理する。【効果】 安全衛生面の問題を生じることなく硬化塗膜パターンを形成することができ、従来の熱硬化型や有機溶剤現像型のソルダレジストと同等の特性を有する硬化塗膜パターンを形成することができる。
Claim (excerpt)：
樹脂1kg中に0.3モル以上,10モル以下の重合性不飽和基及び0.1モル以上,3モル以下の下記化1に示す非プロトン型オニウム塩含有基を有する芳香族エポキシ樹脂誘導体100重量部に対して、光重合開始剤を0.1重量部以上,10重量部以下及び下記化2に示す重合性不飽和単量体を1重量部以上,15重量部以下含有してなることを特徴とする光重合性組成物。【化1】【化2】
IPC (5)：
G03F 7/029
, C08F290/06 MRV
, G03F 7/027 501
, G03F 7/032 501
, H05K 3/28
Cited by examiner (5)
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